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簡要描述:具有分辨率的直接激光刻錄機(jī)PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機(jī),可使用單個激光束創(chuàng)建高分辨率結(jié)構(gòu)。這款多功能、低維護(hù)的激光刻錄機(jī)可為特征和光柵周期提供分辨率。用戶友好的 PICOMASTER 系列為您的激光光刻挑戰(zhàn)提供了解決方案。
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PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機(jī),可使用單個激光束創(chuàng)建高分辨率結(jié)構(gòu)。這款多功能、低維護(hù)的激光刻錄機(jī)可為特征和光柵周期提供分辨率。用戶友好的 PICOMASTER 系列為您的激光光刻挑戰(zhàn)提供了解決方案。
具有以下功能:
單聚焦光束寫入策略
分辨率低至 0.3 μm
4096級灰度光刻
即使在具有挑戰(zhàn)性的基材上也能進(jìn)行專有自動對焦
最大 8" x 8" 暴露區(qū)域
無縫合曝光
PICOMASTER 直接激光刻錄機(jī)為您的微加工需求提供解決方案。
提供 405 和 375 激光源,保證 300 nm 的分辨率,因此 PICOMASTER 直接激光刻錄機(jī)可產(chǎn)生市場上最高分辨率。這些無掩模直接激光刻錄機(jī)增強(qiáng)了科學(xué)和工業(yè)目的的創(chuàng)新實力,為光子器件、微電子、MEMS、3D 光刻、光學(xué)可變器件 (OVD)、衍射光學(xué)元件等領(lǐng)域的研發(fā)帶來了機(jī)會。
P RECISION:即使對于精細(xì)劑量也能提供高精度激光功率控制,即使在具有挑戰(zhàn)性的樣品上也能自動對焦,并且具有對準(zhǔn)精度
解決方案:為特征和光柵提供分辨率,特征周期低至 300 nm 以下
優(yōu)化:可以通過桌面或獨立系統(tǒng)選擇、適當(dāng)?shù)募す庠床ㄩL和寫入模式選擇來針對任何類型的應(yīng)用進(jìn)行優(yōu)化
輪廓分析:提供高達(dá) 4096 級的灰度功能,而不影響曝光速度,實現(xiàn)2.5D 抗蝕劑輪廓分析
易于使用:內(nèi)部設(shè)計的對齊工具和強(qiáng)大的用戶界面支持輕松的樣品處理,方便處理最常見的文件格式
降低維護(hù)成本:通過免維護(hù)運動平臺和長壽命光學(xué)模塊(10,000 小時)實現(xiàn)平穩(wěn)、快速且經(jīng)濟(jì)高效的維護(hù),該模塊易于更換,無需上門服務(wù)
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