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10-17
橢偏儀是一種用于測(cè)量光線偏振狀態(tài)的儀器。它是一種非常重要的光學(xué)設(shè)備,廣泛應(yīng)用于光學(xué)領(lǐng)域、物理研究以及工業(yè)生產(chǎn)中。橢偏儀是一種用于測(cè)量光線偏振狀態(tài)的儀器。所謂光線偏振,是指橫向電場(chǎng)的振動(dòng)方向在空間中具有一定的取向特征。光線偏振特性的研究對(duì)于了解光的本質(zhì)、光學(xué)材料的性質(zhì)以及各種現(xiàn)象的解釋都起到了重要的作用。該儀器通過測(cè)量光的橢圓偏振狀態(tài)來確定光的偏振特性。它包含一個(gè)光源、一個(gè)偏振器、一個(gè)樣品,以及一個(gè)光強(qiáng)檢測(cè)器。光源發(fā)出的光經(jīng)過偏振器后成為線偏振光,然后進(jìn)入樣品。樣品會(huì)對(duì)光產(chǎn)生一...
10-13
Leica徠卡DM2000正置生物顯微鏡是一種專業(yè)的顯微鏡,用于組織觀察和分析。以下是使用該顯微鏡進(jìn)行組織觀察的步驟:準(zhǔn)備樣本:將待觀察的組織樣本制備成薄片,并固定在載玻片上??梢允褂媒M織切片、細(xì)胞培養(yǎng)物等樣本。調(diào)整光源:打開顯微鏡的光源,并調(diào)整亮度和對(duì)比度,以獲得清晰的圖像。放置載玻片:將載玻片放置在顯微鏡的載物臺(tái)上,并使用固定裝置固定好。調(diào)整目鏡:調(diào)整目鏡的焦距,使其適應(yīng)觀察者的視力。調(diào)整物鏡:選擇合適的物鏡,通常使用10x、20x、40x或100x的物鏡進(jìn)行觀察。通過旋...
10-10
奧林巴斯顯微鏡技術(shù)性能指標(biāo)是指產(chǎn)品在一定條件下,實(shí)現(xiàn)預(yù)定目的或者規(guī)定用途的能力。任何產(chǎn)品都具有其特定的使用目的或者用途。不同的產(chǎn)品性能所包含的內(nèi)容是不同的,例如最大分辨、放大倍數(shù)等。但奧林巴斯顯微鏡價(jià)格是不屬于性能范疇的。我們?cè)谫?gòu)買顯微鏡的時(shí)候通常會(huì)關(guān)注一個(gè)比例,稱為“性價(jià)比"這個(gè)詞語的意義是性能與價(jià)格的比值。由此可見,性能與價(jià)格是區(qū)分開來進(jìn)行比較的。以下是一款?yuàn)W林巴斯顯微鏡技術(shù)性能指標(biāo)示例:1.30度鉸鏈?zhǔn)诫p目觀察頭(55mm-75mm)360度旋轉(zhuǎn);2.目鏡WF10X/W...
9-15
原子層沉積是一種先進(jìn)的薄膜制備技術(shù),具有很高的精度和可控性,被廣泛應(yīng)用于納米科技、半導(dǎo)體工業(yè)、光電子學(xué)等領(lǐng)域。原子層沉積是一種逐層生長(zhǎng)薄膜的加工方法,其原理基于表面吸附反應(yīng)和表面擴(kuò)散。ALD以金屬有機(jī)化合物和氣體分子等原料為基礎(chǔ),通過交替加入一層一層的原料,并在每次反應(yīng)后用惰性氣體或真空氛圍清洗表面,以確保薄膜獲得優(yōu)異的純度和致密性。由于每一層都經(jīng)過嚴(yán)格控制,ALD可以實(shí)現(xiàn)非常薄的薄膜厚度、很高的均勻性和出色的復(fù)雜結(jié)構(gòu)。該技術(shù)具有許多特殊的優(yōu)勢(shì)。首先,ALD在納米尺度下能夠?qū)?..
9-15
生物顯微鏡是用于觀察和研究生物樣本的重要工具。以下是一般的生物顯微鏡研究方法:樣本準(zhǔn)備:選擇合適的生物樣本,并進(jìn)行必要的處理和制備步驟,如固定、切片、染色等。確保樣本質(zhì)量和可觀察性。調(diào)整顯微鏡參數(shù):根據(jù)需要調(diào)整顯微鏡的放大倍數(shù)、焦距、光源強(qiáng)度等參數(shù),以獲得清晰且詳細(xì)的圖像。觀察樣本:將已制備好的生物樣本放置在顯微鏡玻片上,并將其放入顯微鏡臺(tái)中。使用低倍率目鏡(如4x或10x)先大致定位并聚焦,然后逐漸增加放大倍數(shù)(例如40x或100x)以獲取更高分辨率的圖像。記錄觀察結(jié)果:使...
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化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(ChemicalVaporDeposition,CVD)是一種用于制備材料和涂層的常見方法。它通過將化學(xué)物質(zhì)在氣體相中加熱并使其分解,然后將產(chǎn)生的反應(yīng)物質(zhì)沉積在基底表面上。該系統(tǒng)是一種常見的材料制備方法,通過在氣體相中加熱并使其分解,將產(chǎn)生的反應(yīng)物質(zhì)沉積在基底表面上,從而形成材料薄膜或涂層。這種方法具有制備高質(zhì)量、高純度和復(fù)雜的材料的優(yōu)點(diǎn),廣泛應(yīng)用于電子、能源、光學(xué)和材料科學(xué)等領(lǐng)域?;瘜W(xué)氣相沉積系統(tǒng)的原理基于氣相反應(yīng)和物理過程。在系統(tǒng)中,有兩個(gè)主要的反應(yīng)區(qū)域...
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作為舒適高效的生物顯微鏡,奧林巴斯CX43始終能緊緊把握用戶的心理。我們都知道奧林巴斯CX43三目生物顯微鏡適用生物領(lǐng)域,在生物領(lǐng)域中,CX43可以用來看一些透明或半透明的液體和粉末狀的物體,主要用于微生物的檢查,還有醫(yī)院里的常規(guī)檢查。也可以用在實(shí)驗(yàn)室中,用來觀察生物切片、生物細(xì)胞、細(xì)菌以及活體組織培養(yǎng)等分裂過程的觀察和研究。奧林巴斯CX43三目生物顯微鏡,還可以連接顯微鏡相機(jī)進(jìn)行顯微成像的捕捉,對(duì)樣品進(jìn)行更加詳細(xì)的研究觀察。為了符合人體工學(xué)的需求,以及將工作效率全面提高,全...
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深硅刻蝕是一種重要的半導(dǎo)體制造工藝技術(shù),常用于在硅片表面刻出所需的結(jié)構(gòu)和圖案。它的原理包括化學(xué)蝕刻和物理蝕刻,常見的方法有濕法刻蝕和干法刻蝕。濕法刻蝕是利用化學(xué)溶液將硅表面的原子溶解掉,實(shí)現(xiàn)刻蝕。干法刻蝕則通過物理力量(如離子束)撞擊硅表面,從而使其被剝離。在刻蝕過程中,需要控制刻蝕速率、選擇性和均勻性等參數(shù),以實(shí)現(xiàn)所需的刻蝕效果。深硅刻蝕的原理包括化學(xué)蝕刻和物理蝕刻,常見的方法有濕法刻蝕和干法刻蝕。濕法刻蝕利用化學(xué)溶液將硅表面的原子溶解掉,而干法刻蝕則通過物理力量(如離子束...