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6-14
臺(tái)式薄膜探針?lè)瓷鋬x應(yīng)用：二十年來(lái)，SENTECH已經(jīng)成功地銷售了用于各種應(yīng)用的薄膜厚度探針FTPadv。這種臺(tái)式反射儀的特點(diǎn)是不管在低溫或高溫下，在工業(yè)或研發(fā)環(huán)境中，都能通過(guò)遠(yuǎn)程或直接控制，對(duì)小樣品或大樣品進(jìn)行實(shí)時(shí)或在線厚度測(cè)量。臺(tái)式反射儀FTPadv精確、可重復(fù)地測(cè)量反射和透明襯底上透明和弱吸收膜的厚度和折射率。FTPadv可以結(jié)合在顯微鏡上，或者配備有穩(wěn)定的光源，用于測(cè)量厚度達(dá)到25µm(根據(jù)要求可更厚)的膜層。更具備了從SENTECH光譜橢偏儀經(jīng)驗(yàn)中受益的預(yù)...
6-2
雙束電鏡是一種高級(jí)顯微技術(shù)，它利用電子束而非可見光來(lái)照射樣品，從而產(chǎn)生高分辨率的圖像。與傳統(tǒng)單束電子顯微鏡相比，雙束電鏡具有更高的空間分辨率和更好的深度信息。首先，我們來(lái)介紹雙束電鏡的基本原理。與傳統(tǒng)電子顯微鏡不同，該設(shè)備使用兩個(gè)電子束同時(shí)照射樣品，一個(gè)束用于成像，另一個(gè)束則用于修正成像所遇到的散射。通過(guò)對(duì)這兩束電子的交互作用進(jìn)行精確控制，該設(shè)備能夠消除成像中的模糊和畸變，從而實(shí)現(xiàn)更清晰和準(zhǔn)確的成像。其次，雙束電鏡的應(yīng)用領(lǐng)域非常廣泛。由于其出色的分辨率和深度信息，它已經(jīng)被廣泛...
5-18
掃描電鏡是一種高分辨率成像儀器，常用于觀察微小的表面形貌和結(jié)構(gòu)，具有很高的分辨率和放大倍數(shù)。以下是掃描電鏡的使用方法及注意事項(xiàng)。一、使用方法：1.樣品制備。首先需要將待觀察的樣品進(jìn)行制備，如金屬、陶瓷等堅(jiān)硬材料需要切割或打磨;生物組織需要切片。制備完成后需要將樣品放置在真空室中。2真空處理。開啟真空泵對(duì)真空室進(jìn)行抽氣，直至壓力達(dá)到規(guī)定值。保持真空室內(nèi)恒溫，并且在操作過(guò)程中不得打開真空室門，以免污染樣品表面。3.像素設(shè)置。根據(jù)所需的分辨率和放大倍數(shù)等參數(shù)進(jìn)行設(shè)置。4.樣品安裝。...
5-18
等離子刻蝕機(jī)，又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面刻蝕機(jī)、等離子體刻蝕機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來(lái)講，等離子清洗實(shí)質(zhì)上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。進(jìn)行干式蝕刻工藝的設(shè)備包括反應(yīng)室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應(yīng)室。氣...
5-10
在材料領(lǐng)域，掃描電鏡技術(shù)扮演了極為重要的角色，廣泛用于多種材料形態(tài)結(jié)構(gòu)，界面狀況，損傷機(jī)制和材料性能預(yù)測(cè)的研究。自從1965年第一臺(tái)商品掃描電鏡問(wèn)世以來(lái)，經(jīng)過(guò)40多年的不斷改進(jìn)，掃描電鏡的分辨率從第一臺(tái)的25nm提高到現(xiàn)在的0.01nm，而且大多數(shù)掃描電鏡都能與X射線波譜儀、X射線能譜儀等組合，成為一種對(duì)表面微觀世界能夠經(jīng)行全面分析的多功能電子顯微儀器。用掃描電鏡可直接對(duì)晶體缺陷及生成過(guò)程進(jìn)行研究，可觀測(cè)金屬材料內(nèi)部原子及其真實(shí)邊界的集結(jié)模式，還可觀測(cè)不同情況下邊界的運(yùn)動(dòng)模式...
4-28
掃描電鏡全稱為掃描電子顯微鏡，通過(guò)用聚焦電子束掃描樣品的表面而產(chǎn)生樣品表面的圖像。它由電子光學(xué)系統(tǒng)、信號(hào)收集及顯示系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和電源系統(tǒng)組成，應(yīng)用于生物、醫(yī)學(xué)、材料和化學(xué)等領(lǐng)域。掃描電鏡(SEM)是介于透射電鏡和光學(xué)顯微鏡之間的一種微觀形貌觀察手段，可直接利用樣品表面材料的物質(zhì)性能進(jìn)行微觀成像。掃描電鏡的優(yōu)點(diǎn)如下：①有較高的放大倍數(shù)，20-20萬(wàn)倍之間連續(xù)可調(diào);②有很大的景深，視野大，成像富有立體感，可直接觀察各種試樣凹凸不平表面的細(xì)微結(jié)構(gòu);③試樣制備簡(jiǎn)單。目前的掃描電鏡都...
4-26
透射電鏡可以看到在光學(xué)顯微鏡下無(wú)法看清的小于0.2um的細(xì)微結(jié)構(gòu)，這些結(jié)構(gòu)稱為亞顯微結(jié)構(gòu)或超微結(jié)構(gòu)。要想看清這些結(jié)構(gòu)，就必須選擇波長(zhǎng)更短的光源，以提高顯微鏡的分辨率。1932年Ruska發(fā)明了以電子束為光源的透射電子顯微鏡，電子束的波長(zhǎng)要比可見光和紫外光短得多，并且電子束的波長(zhǎng)與發(fā)射電子束的電壓平方根成反比，也就是說(shuō)電壓越高波長(zhǎng)越短。目前TEM的分辨力可達(dá)0.2nm。透射電鏡的成像原理可分為三種情況：1、吸收像：當(dāng)電子射到質(zhì)量、密度大的樣品時(shí)，主要的成相作用是散射作用。樣品上...
4-25
深硅刻蝕是一種常用的微納加工技術(shù)，它可以在硅基材料上進(jìn)行高精度的圖案制作和三維結(jié)構(gòu)加工。本文將圍繞深硅刻蝕展開討論，并介紹其原理、應(yīng)用和發(fā)展趨勢(shì)等方面。一、深硅刻蝕原理該產(chǎn)品利用化學(xué)反應(yīng)或物理過(guò)程來(lái)去除硅基材料表面的物質(zhì)，從而實(shí)現(xiàn)加工目的。其中常用的方法是濕法蝕刻和干法蝕刻兩種。濕法蝕刻是利用強(qiáng)酸或強(qiáng)堿腐蝕硅材料，使其發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而去除表面物質(zhì)。干法蝕刻則是通過(guò)離子轟擊或化學(xué)氣相反應(yīng)來(lái)去除硅材料表面的物質(zhì)。二、深硅刻蝕的應(yīng)用該產(chǎn)品在微納加工中有著廣泛的應(yīng)用。例如，在MEM...
