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12-13
作為奧林巴斯的密切合作伙伴，我們總是可以在最短的時間內(nèi)獲取到奧林巴斯最新的消息。奧林巴斯顯微鏡將會在今年年底或者是2024年年初的時候進(jìn)行價格調(diào)整，上調(diào)比例為7%~10%。北京時間2023年11月27日發(fā)布。作為為用戶提供高性價比產(chǎn)品的代理經(jīng)銷商，我們有必要和義務(wù)為客戶提供理想的顯微成像解決方案，但是也要保證客戶可以花最少的錢買到心儀的產(chǎn)品，因此我們建議客戶在2023.12月份左右抓緊時間下單，保證所購買的產(chǎn)品是現(xiàn)價而非漲價后的價格。
11-22
蔡司共聚焦顯微鏡是一種高級顯微鏡，能夠提供高分辨率和高對比度的顯微觀察。以下是該顯微鏡的使用方法：準(zhǔn)備工作：確保顯微鏡的工作環(huán)境干凈整潔，準(zhǔn)備好顯微鏡所需的樣品和載玻片。檢查顯微鏡的鏡頭和光源是否干凈，調(diào)整顯微鏡的對焦機(jī)構(gòu)，使其處于合適的位置。安裝樣品：將待觀察的樣品放置在載玻片上，然后將載玻片放入顯微鏡的樣品臺中。確保樣品平整，不要有明顯的傾斜或移動。對焦調(diào)節(jié)：使用顯微鏡的對焦機(jī)構(gòu)將樣品調(diào)整到合適的對焦位置。開始時，可以使用低倍鏡頭進(jìn)行初步對焦，然后再使用高倍鏡頭進(jìn)行微調(diào)。...
10-24
橢偏儀是一種用于測量光學(xué)元件(如晶體、薄膜等)的光學(xué)性質(zhì)的儀器。它主要用于測量材料的光學(xué)旋光性質(zhì)和雙折射性質(zhì)。下面是橢偏儀的使用方法的詳細(xì)介紹。1.準(zhǔn)備工作首先，確保橢偏儀處于正常工作狀態(tài)。檢查儀器的電源、光源和檢測器等部分是否正常工作，并進(jìn)行必要的校準(zhǔn)和調(diào)試。2.樣品準(zhǔn)備準(zhǔn)備待測樣品，通常是晶體或薄膜。樣品應(yīng)具有一定的透光性，并且表面應(yīng)清潔無污染。如果需要，可以使用樣品夾具將樣品固定在適當(dāng)?shù)奈恢蒙稀?.調(diào)整光路調(diào)整橢偏儀的光路，確保光線能夠順利通過樣品。根據(jù)儀器的不同，可能...
10-10
第五屆世界生殖生物學(xué)大會的公告于北京時間2023年9月13日開展，大會由中國生殖生物學(xué)學(xué)會(CSRB)主辦，旨在匯集主要的學(xué)術(shù)科學(xué)家、研究人員和研究學(xué)者，交流和分享他們對生殖生物學(xué)各個方面的興趣、經(jīng)驗和研究成果。大會將為所有與會者提供全體講座、跨學(xué)科研討會、口頭和海報會議，以介紹和討論生殖生物學(xué)領(lǐng)域的最新趨勢和關(guān)切。我們希望在大會上延續(xù)WCRB的優(yōu)秀傳統(tǒng)，進(jìn)一步發(fā)揚(yáng)其價值觀。WCRB2023將與7個國際學(xué)會合作舉辦:生殖研究學(xué)會(SSR，美國)、生殖生物學(xué)學(xué)會(SRB，澳大利...
9-22
原子層沉積是一種薄膜制備技術(shù)，它通過在襯底表面逐層沉積單原子或分子層來構(gòu)建所需的薄膜結(jié)構(gòu)。下面是一種使用原子層沉積的基本方法：1.準(zhǔn)備襯底：首先準(zhǔn)備一個干凈、平整的襯底。確保表面沒有雜質(zhì)和污染物，以保證薄膜的質(zhì)量。2.清洗襯底：使用適當(dāng)?shù)那逑捶椒?如超聲波清洗、化學(xué)溶液清洗等)將襯底清洗干凈，去除表面的氧化物、臟物和雜質(zhì)。3.前處理：根據(jù)需要，可以在襯底表面進(jìn)行一些前處理步驟，如表面活化、化學(xué)修飾等，以便增強(qiáng)薄膜的附著性和特定性能。4.ALD沉積：將預(yù)先選擇好的沉積原料分子(...
9-11
化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)是一種常用的材料生長技術(shù)，廣泛應(yīng)用于制備薄膜、納米顆粒和納米線等材料。下面是關(guān)于化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)的使用方法的文章，希望能對您有所幫助?；瘜W(xué)氣相沉積系統(tǒng)的使用方法化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(CVD)是一種將氣相反應(yīng)物轉(zhuǎn)化成固態(tài)產(chǎn)物的方法。該系統(tǒng)需要以下關(guān)鍵組件：反應(yīng)室、進(jìn)氣系統(tǒng)、底部加熱爐、載氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和廢氣處理系統(tǒng)。首先，要確保系統(tǒng)處于干凈和安全的狀態(tài)。清潔各個組件，確保無塵、無雜質(zhì)以及無明顯磨損。接下來，將待沉積的材料片或基底放置在反應(yīng)室中的樣品架上。注意，材料...
8-23
深硅刻蝕是一種重要的微電子制造技術(shù)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體材料加工中。它通過控制化學(xué)反應(yīng)來刻蝕硅材料，從而實現(xiàn)對硅片的精確加工和微細(xì)結(jié)構(gòu)的制作。深硅刻蝕的使用方法通常包括以下幾個步驟：1.貼裝：將待加工的硅片粘貼到專用工藝底座或支架上。這樣做可以保持硅片的平整度，同時確保整個加工過程的穩(wěn)定性。2.清洗：將硅片放入去離子水中進(jìn)行清洗，去除表面的雜質(zhì)和污染物。清洗的目的是為了確保后續(xù)刻蝕過程的純凈度，以獲得最佳的刻蝕效果。3.駐留：在清洗完畢后，將硅片放入駐留槽中，讓硅片與刻蝕液接觸一...
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刻蝕系統(tǒng)是一種重要的制程設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、微電子等領(lǐng)域。它被用來精確地去除材料表面的一層或多層，以實現(xiàn)微細(xì)結(jié)構(gòu)的制造。本文將介紹刻蝕系統(tǒng)的使用方法，以幫助讀者更好地理解和運(yùn)用該設(shè)備。首先，使用者需要準(zhǔn)備好待刻蝕的樣品。樣品應(yīng)具備所需的幾何形狀和所要刻蝕的材料。樣品的表面應(yīng)清潔無塵，以免污染系統(tǒng)。此外，需要根據(jù)刻蝕目標(biāo)來選擇合適的刻蝕氣體和刻蝕液。接下來，使用者需要將樣品放置到系統(tǒng)的樣品架上或夾具中。根據(jù)刻蝕目標(biāo)的需求，可以調(diào)整樣品的位置、方向和角度。確保樣品固定牢...
