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簡(jiǎn)要描述：電漿原子層沉積設(shè)備是一種基于常規(guī)ALD的先進(jìn)方法，其利用電漿作為裂化前驅(qū)物材料的條件，而不是僅依靠來(lái)自加熱基板的熱能。
產(chǎn)品型號(hào)：廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時(shí)間：2024-07-10訪 問(wèn) 量：481產(chǎn)品分類
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| 品牌 | 其他品牌 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子 |
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電漿原子層沉積設(shè)備（PEALD）是一種基於常規(guī)ALD的先進(jìn)方法，其利用電漿作為裂化前驅(qū)物材料的條件，而不是僅依靠來(lái)自加熱基板的熱能。 製程中只需靠電漿來(lái)進(jìn)行裂化前驅(qū)物材料，無(wú)需高溫來(lái)傳遞必要的活化能。SYSKEY的系統(tǒng)可以精準(zhǔn)的控制電漿與ALD的製程，薄膜的厚度和均勻度皆+/- 1％。
電漿原子層沉積設(shè)備參數(shù)：
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
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| 配置和優(yōu)點(diǎn) | 選件 |
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